简要描述:KLA Filmetrics F30薄膜厚度测量仪通过实时监控沉积过程,提供高精度、快速且非侵入式的测量解决方案,适用于多种半导体和电介质材料。其主要特点包括提高生产力、低成本、高精度及易用性。该系列产物覆盖不同厚度和波长范围,满足多样化测量需求。
产物型号:
所属分类:薄膜厚度测量仪
更新时间:2025-03-10
厂商性质:生产厂家
KLA Filmetrics F30薄膜厚度测量仪光谱反射率系统能实时测量沉积率、沉积层厚度、光学常数 (n 和 k 值) 和半导体以及电介质层的均匀性。
KLA Filmetrics F30薄膜厚度测量仪分子束外延和金属有机化学气相沉积: 可以测量平滑和半透明的,或轻度吸收的薄膜。 这实际上包括从氮化镓铝到镓铟磷砷的任何半导体材料。
极大地提高生产力
低成本 —几个月就能收回成本
A精确 — 测量精度高于 ±1%
快速 — 几秒钟完成测量
非侵入式 — 在沉积室以外进行测试
易于使用 — 直观的 Windows™ 软件
几分钟就能准备好的系统
型号 | 厚度范围 | 波长范围 |
F30 | 15苍尘-70μ尘 | 380-1050nm |
F30-EXR | 15苍尘-250μ尘 | 380-1700nm |
F30-NIR | 100苍尘-250μ尘 | 950-1700nm |
F30-UV | 3苍尘-40μ尘 | 190-1100nm |
F30-UVX | 3苍尘-250μ尘 | 190-1700nm |
F30-XT | 0.2μ尘-450μ尘 | 1440-1690nm |