简要描述:KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度测量仪系列,涵盖近红外光波长范围980 nm、1310 nm及1550 nm,能够测量从15纳米至3毫米的薄膜厚度,适用于半导体与介电层等材料。该设备具备单点测量功能,配备10微米光斑尺寸的集成光谱仪和光源,并支持扩展功能如自动化测绘平台和不同波长选项。此外,它还提供了超过130种材料的数据库支持,以及在线技术支持服务。
产物型号:
所属分类:薄膜厚度测量仪
更新时间:2025-03-10
厂商性质:生产厂家
KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度测量仪能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米,而这种较厚的薄膜与较薄的薄膜相比往往粗糙且均匀度较为不佳
KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度测量仪系列使用近红外光来测量薄膜厚度,即使有许多肉眼看来不透光(例如半导体)。 F3-s980 是波长为980奈米的版本,是为了针对成本敏锐的应用而设计,F3-s1310是针对重掺杂硅片的最佳化设计,F3-s1550则是为了最厚的薄膜设计。
附件包含自动化测绘平台,一个影像镜头可看到量测点的位置以及可选配可见光波长的功能使厚度测量能力最薄至15奈米。
集成光谱仪/光源装置
光斑尺寸10微米的单点测量平台
FILMeasure 8反射率测量软件
Si 参考材料
FILMeasure 独立软件 (用于远程数据分析)
型号 | 厚度范围 | 波长范围 |
F3-s980 | 1μ尘-1尘尘 | 960-1000nm |
F3-s1310 | 15μ尘-2尘尘 | 1280-1340nm |
F3-s1550 | 25μ尘-3尘尘 | 1520-1580nm |