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Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机由OAI设计与制造 在半导体行业，OAI 拥有 40 余年产物研发和制造经验，以专为研发及半自动生产设计的光刻设备，应对动态市场日益增长的挑战。800E 型基于经实践验证的 OAI 模块化平台打造，是一套增强型、高性能、高分辨率光刻系统，在该价格段性能好。对准器搭载 OAI 优良光束光学技术，均匀性佳。

Model 212 紫外掩膜曝光机由OAI设计与制造 一种用于大面积基板的低成本研发工具。这是一款多功能工具，既能适配较小尺寸的基板和掩模，也能轻松升级以处理更大尺寸的基板。适用于封装、显示器、有机发光二极管（OLED）、半导体晶圆的研发 其规格与 OAI 200 型台式掩模对准器相同

Model 200 紫外掩膜曝光机由OAI设计与制造 OAI 系统能够处理各种常规形状和不规则形状的多种基板。高效光源在多种光谱范围内可提供均匀的紫外线曝光。