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Model 200 紫外掩膜曝光机

简要描述：Model 200 紫外掩膜曝光机由OAI设计与制造
OAI 系统能够处理各种常规形状和不规则形状的多种基板。高效光源在多种光谱范围内可提供均匀的紫外线曝光。

产物型号：

所属分类：Model 200 紫外掩膜曝光机

更新时间：2025-07-04

厂商性质：生产厂家

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详情介绍

Model 200 紫外掩膜曝光机

Model 200 紫外掩膜曝光机

OAI 200 型掩模对准器和紫外曝光系统是一款高性价比的高性能工具，其采用了行业模块化组件，这使得 OAI 在微机电系统（惭贰惭厂）、纳米技术和半导体设备行业处于优势地位。200 型是一款台式设备，所需洁净室空间极小。它为研发、中试或小批量生产提供了经济实惠的选择。该系统采用创新的气浮 / 真空吸盘调平系统，能快速、轻柔地对基板进行调平，确保在接触曝光过程中，光刻掩模与晶圆平行对准且全面均匀接触。该系统可实现微米级分辨率和对准精度。对准模块配备了掩模插入组和快换式晶圆吸盘，无需工具重新配置，即可使用多种基板和掩模。对准模块集成了用于 X、Y 和 θ 轴的千分尺。200 型对准器可配备多种对准光学器件，包括背面红外（IR）对准器件。红外照明真空吸盘可配置用于整片晶圆或晶圆碎片的对准。OAI 200 型可配置 OAI 纳米压印模块，使其成为市面上低成本的纳米压印（狈滨尝）工具。OAI 还提供一种模块，专为使用液态光聚合物快速原型制作或生产微流控器件而设计。

200 型配备了可靠的 OAI 光源，使用功率范围为 200 至 2000 瓦的灯，可提供近紫外或深紫外的准直紫外光。双传感器光学反馈回路与恒定强度控制器相连，将曝光强度控制在所需强度的 ±2% 以内。紫外波长的更换快速便捷。200 型是适用于任何入门级掩模对准和紫外曝光应用的高灵活性、经济型解决方案。

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应用领域

微机电系统（惭贰惭厂）
纳米压印（狈滨尝）
微流控技术
纳米技术
II-VI 及 III-V 族器件制造
多层光刻胶处理
液晶显示器（尝颁顿）和场发射显示器（贵贰顿）
多芯片模块（惭颁惭’蝉）
薄膜器件
太阳能电池
声表面波器件（SAW devices）

选项

可配备单摄像头和单屏幕，或双摄像头和双屏幕（照片中显示的是双摄像头/双屏幕版本）可加装用于纳米压印（狈滨尝）的纳米压印模块可加装用于微流控技术的模块

特点

占地面积小

真空吸盘

精密对准模块

可互换的掩模支架和基板吸盘

优势

所需洁净室空间极小对易碎基板材料的损伤极小对准精度可达1微米可轻松适配多种基板和掩模红外透明晶圆的背面掩模对准精度可达3-5微米紫外光具有高准直性和均匀性可快速更换紫外光波长曝光强度控制在±2%以内可配置为用于纳米压印（狈滨尝）的纳米压印工具可配置微流控模块

Model 200 紫外掩膜曝光机

Model 200 紫外掩膜曝光机规格参数

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