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光刻胶蚀刻残留物清洗剂Post-CMP Cleans是一款由杜邦研发与生产的清洗剂，PCMP清洗剂适用于前端工艺（FEOL）中的氧化铈、多晶硅、二氧化硅材料，中端工艺（MEOL）中的钨材料，以及后端工艺（BEOL）中的铜材料制程
光刻胶蚀刻残留物清洗剂Post-Etch Cleans是一款由杜邦研发与生产的用于铝（Al）和铜（Cu）互连结构的蚀刻后残留物去除剂（PERR）
光刻胶蚀刻残留物清洗剂LED, TSV, WLP Cleans是一款由杜邦研发与生产的LED、TSV、WLP 清洗试剂
光刻胶蚀刻残留物清洗剂Post-Patterning Cleans是一款由杜邦研发与生产的光刻胶去除剂与剥离剂
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