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Model 30 准直紫外光源及曝光系统

OAI 的独立式紫外泛光曝光系统，适用于深紫外、中紫外或近紫外。系统包括强度控制、双波长传感器和精密曝光定时器。从灵活性角度设计，该系统可用作独立单元，集成到晶圆旋转轨道上，或通过使用一个或两个灯箱以及各种光路方向，以多种其他配置形式使用。在深紫外波段，可实现单级或多级高分辨率光刻，光谱峰值为 220、260 或 310 纳米。近紫外系统功率范围为 200 至 2000 瓦，深紫外系统为 500 至 2000 瓦 。

灯发出的能量被导向主介质镜，主介质镜反射所需能量并滤除不需要的辐射。可调节的光学积分器提高能量均匀性，并能控制能量和光束发散度。能量在曝光平面均匀分布并被准直。透过副镜的能量由一个调谐到所需波长的光学探测器测量，并传输到恒定强度控制器，该控制器补偿灯的老化和功率波动，将光线控制在 ±2% 以内。双通道控制器可在 0.1 或 1.0 秒的增量下设置为 0 到 999 秒。

OAI 紫外曝光系统以长期可靠性和高效率著称。它们的设计便于从一个波长区域转换到另一个波长区域，并有多种带通镜组可供选择 。

应用领域

• 光聚合物曝光

• 多层抗蚀剂加工

• 图像反转

• 边缘珠（边缘胶束 ）去除

• 图像稳定化

• 光刻胶轮廓修正

• 晶圆旋转轨道在线加工

• 平板显示器

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